- 渦流 Hot N2 技術：多孔噴嘴均勻注入加熱氮氣，確保流場與溫度分佈一致。
- 高效加熱套：穩定維持管線溫度，有效降低熱損與冷點。
- 管路整合性強：可整合於 Pump 出口端，優化熱分佈。
- 滿足 SEMI S2 安全標準：符合半導體設備環保與安全規範。
- 防止結晶沉積，延長清潔與維護週期。
- 提升設備稼動率與整體產能效率。
- 節能設計，熱效率優於傳統加熱方式。
- 溫度與氣體流場穩定，確保製程品質一致性。
04.氣體加熱
渦旋式氣體加熱器VGH® Vortex Gas Heaters
▲VGH® (Hot N2 加熱系統) 是一項專利技術 (專利號：I768928)，同時通過 SEMI S2 認證 (編號：ELC18221.1)。
▲專為半導體與 LCD 製造製程中的尾氣處理與真空管線管理設計，主要目的是減少副產物沉積、提升設備稼動率、強化製程穩定性。
▲系統整合加熱氮氣（Hot N2）與高效加熱套裝置，維持管線 高溫狀態，抑制結晶與冷凝發生。
產品特點
產品應用與規格
產品應用
- 用於真空 Pump 出口至 Local Scrubber 之間尾氣輸送管線。
- 半導體、LCD 製程中尾氣處理系統。
- 適合導入於需要降低副產物沉積與強化排氣穩定性的設備。
產品規格
| Max. Operating Temperatures |
Voltage | Power Range | Integrated Sensor/ Controller (optional) |
Gas Flow | Certification | Patent |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 200°C | 208V ~ 230V | 1000W / 2000W | Type K TC | 10~100LPM | SEMI S2 NFPA 79 UL 508A |
1768928 |
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