- 採用高熱導率材料（AlN），優異的熱均勻性與寬廣的操作溫度範圍，實現卓越的熱均勻性。
- 電阻加熱元件與RF電極與AlN陶瓷共燒結，並將陶瓷軸直接接合至加熱板，實現緊湊整合設計。
- 高耐腐蝕性 : 對鹵素氣體及氧化性環境具備優異的耐腐蝕性能。
- 表面平整性高 : 確保晶圓熱接觸一致性。
01.腔體加熱
氮化鋁加熱器AlN Heaters / Hot Plate
▲氮化鋁陶瓷加熱器是一種以高導熱性氮化鋁 (AlN) 為基材，透過金屬膜層沉積或印刷電極實現加熱功能的高效能發熱元件。
▲該類加熱器具備優異的熱導率、電絕緣性與高溫穩定性，適用於需要快速升溫與高潔淨度的應用場合，尤其適合半導體、光電與精密設備等產業。
產品特點
產品應用與規格
產品應用
- Wafer heating (pre-bake/post-bake)、CVD、ALD、Etch 等腔體內部加熱元件。
- TFT/LCD/AMOLED 加熱平台。
- 微流道平台、熱分析模組、熱均勻平台。
- 光電封裝 : 高穩定性、高絕緣加熱台或壓焊模具底座。
| Max. Operating Temperatures |
Voltage | Power Range | Integrated Sensor Controller (optional) |
Material |
|---|---|---|---|---|
| > 250°C Custom |
48V、110V、230V | 100W ~ 1000W Custom |
Type K TC | AlN |
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